몰리브덴은 높은 용융점, 우수한 전기 전도성, 낮은 비저항, 탁월한 내식성 및 친환경적인 특성을 지니고 있어 마그네트론 스퍼터링 공정을 통해 다양한 기판 위에 몰리브덴 코팅을 형성하는 데 이상적인 소재입니다. 

이 몰리브덴 코팅은 전자 부품 및 제품에 광범위하게 사용되며, 당사의 타겟은 가장 엄격한 품질 기준을 준수합니다.

Ultra-high purity

• 높은 타겟 순도는 PVD 공정 중 불량 입자 발생률을 낮추고 스퍼터링된 박막의 성능을 향상시킵니다.
• 불순물은 박막 증착의 주요 오염원이므로 철저히 관리해야 합니다.
• 당사의 순수 몰리브덴 타겟은 99.97% 이상의 몰리브덴 함량을 보장하여 모든 픽셀이 완벽하게 작동할 수 있도록 고품질 박막을 제공합니다.

Ultra-high density

• 고밀도 타겟은 스퍼터링 효율을 높여 단위 시간당 스퍼터링 면적을 늘립니다.
• 당사는 대규모 압연 변형을 통해 최대 10.2 g/cm³의 거의 100% 밀도의 몰리브덴 타겟을 구현하여 고체 내 기공 방출로 인한 입자 튐을 효과적으로 방지하고 박막 품질을 향상시킵니다.

Fine, uniform grain size

• 동일한 타겟 재료의 경우 결정립이 작을수록 스퍼터링 속도가 빠르며, 균일한 결정립 분포를 가진 스퍼터링 타겟은 더 균일한 박막 두께를 증착합니다.
• 당사에서 특수 공정을 통해 생산하는 타겟은 미세하고 균일한 결정립 크기를 특징으로 합니다.

Wide selection of target types

• 당사는 다양한 종류의 몰리브덴 스퍼터링 타겟을 제공하며, 모양에 따라 몰리브덴 사각 타겟, 몰리브덴 스트립 타겟, 몰리브덴 튜브 타겟으로 나눌 수 있습니다.
• 재료 분류에 따라 순수 몰리브덴 타겟과 몰리브덴 합금 타겟으로 나눌 수 있습니다.